一、电子半导体废水概况
电子半导体废水主要来源于半导体研磨过程和集成电路的蚀刻、镀槽、清洗等工序,含有多种污染物,包括磷、氟离子、超细颗粒物、氨氮、有机物COD、重金属离子等。电子半导体废水的来源主要包括半导体研磨过程中产生的废水,如酸碱废水、含氟废水、含磷废水、氨氮废水以及半导体有机废水等。这些废水还来源于集成电路的蚀刻、镀槽、清洗等工序。废水中含有的污染物化学成分复杂,包括磷、氟离子、超细颗粒物、氨氮、有机物COD(化学需氧量)、重金属离子等。这些污染物对环境和人类健康构成威胁,因此,电子半导体废水处理和管理至关重要。
二、案例分析
合作单位:上海某半导体制造有限公司
开始合作时间:2023年7月
改造项目:一体化生化设备
现场主要是通过化学法去除各种污染指标,没有考虑过运用生化。我们取水进行了水质分析,发现其实是适合做生化处理的,但业主的意思是现阶段效益不高,希望是能提供低价的方案。根据该公司电子半导体废水处理 的情况,给其设计了一个一体化的生化设备,更好地处理了现场的超标问题,产生的费用也在业主的可接受程度内。
三、改造前COD和氨氮出水浓度
四、工艺说明
(1)生化一体化设备(水解酸化+厌氧+好氧MBR)
水解酸化池
利用水解菌、酸化菌将水中不溶性有机物水解为溶解性有机物,将难生物降解的大分子物质转化为易生物降解的小分子物质的过程,从而调整废水的可生化性,为后续生化处理提供良好的水质环境。增大B/C比,提高废水可生化性同时去除废水中的部分COD和氨氮。
好氧MBR膜池
好氧MBR膜池,作为新型分离技术,集成了传统活性污泥法与膜分离工艺。该技术通过在曝气池中集成结构化MBR平片膜组件,实现好氧处理后的水经膜过滤直接抽出,同时截留污泥与大分子有机物,省去了二沉池。此举有效提升活性污泥浓度,灵活调控水力与污泥停留时间,推动难降解物质在反应器内持续降解,提升处理效率与水质,达到深层去除COD、氨氮的作用。
(2)清水罐
清水罐,用作希洁药剂处理混合反应的一个1000L罐体。
(3)碳滤罐
对废水残余的COD、氨氮、SS等进行有效的物理吸附,使出水水质达标。
五、改造处理后的效果
经过上述电子半导体废水处理的改造方案,该公司污水中的污染指标,cod和氨氮处理后达到排放标准,出水水质达标。
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