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半导体厂的含氟废水处理(图)
来源: 广州希洁环保 时间:2024-05-20

一、项目背景

随着半导体行业的快速发展,生产过程中产生的含氟废水问题日益突出。某半导体厂在刻蚀工序中产生了大量含氟废水,主要成分为氢氟酸和氟化铵,其高浓度的氟离子对环境和人体健康构成严重威胁。为响应环保要求,该半导体厂的含氟废水处理要达到环保要求。

半导体厂的含氟废水处理

二、处理前数据

处理前,该厂含氟废水的氟离子浓度高达50 mg/L,远超排放标准(通常为10 mg/L以下)。同时,废水的pH值波动较大,对后续处理工艺的稳定性造成一定影响。

三、处理方案及实施

采用化学沉淀法作为主要处理工艺,并辅以离子交换法、电絮凝法等多种技术,以确保废水处理效果达到理想状态。

1、化学沉淀法:废水首先需要进入调节池进行均质均量处理,然后进入pH调整池调整废水pH值至适宜范围。随后,废水与钙盐、铝盐和聚丙烯酰胺等除氟混凝剂在混合池中充分混合,形成沉淀物。经过絮凝池和沉淀池的处理,大部分氟离子被去除。

2、离子交换法:对于低浓度含氟废水,该厂采用离子交换法进一步降低氟离子浓度。离子交换树脂有效吸附废水中的氟离子,确保出水质量稳定。

3、电絮凝法:利用电絮凝法处理废水,具有设备简单、操作方便、去除效率高等优点。通过电解作用,废水中的氟离子被有效去除。

此外,该厂还引入了吸附法、氧化技术和生物法等辅助处理工艺,以提高废水处理效果。

四、处理后数据

经过上述处理工艺的综合应用,该半导体厂的含氟废水处理效果明显。处理后的废水氟离子浓度稳定在8.5mg/L以下,远低于排放标准。同时,废水的pH值也稳定在适宜范围内,为后续处理工艺提供了有力保障。

五、总结

通过对该半导体厂的含氟废水处理,采用化学沉淀法、离子交换法、电絮凝法等多种处理工艺的综合应用,成功解决了含氟废水处理问题。处理后的废水氟离子浓度稳定达标,对环境和人体健康的影响得到有效控制。在处理含氟废水时,需要综合考虑废水的来源、浓度、排放标准等因素,选择合适的处理工艺和技术。

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